通过 X 射线光电子能谱表征表面涂层上的 Cs 原子极化弛豫
原子物理
2015-05-13 v3 材料科学
摘要
通过 X 射线光电子能谱 (XPS) 和自旋弛豫测量，研究了玻璃载片上的石蜡涂层对铯 (Cs) 蒸气的作用。涂层载片的 XPS 谱图中存在玻璃基底的成分，如硅 (Si) 和氧 (O)，表明制备的石蜡涂层存在缺陷。在 Cs 蒸气中对涂层进行退火后未观察到基底，这一过程被称为自旋弛豫测量的“熟化”过程。我们发现一个普遍趋势：有效的抗自旋弛豫性能需要表面具有高石蜡覆盖率和低 Cs 覆盖率。我们还检验了一种类金刚石碳 (DLC) 薄膜，预期其具有抗自旋弛豫效应，但迄今为止我们的尝试均未成功。
引用
@article{arxiv.1410.8321,
title = {Relaxation of Cs atomic polarization at surface coatings characterized by X-ray photoelectron spectroscopy},
author = {K. Kushida and T. Niwano and T. Moriya and T. Shimizu and K. Meguro and H. Nakazawa and A. Hatakeyama},
journal= {arXiv preprint arXiv:1410.8321},
year = {2015}
}
备注
6 pages, 6 figures. v2: an extra figure generated in the first submission has been removed. v3: Final author version for publication on JJAP