低能氦在钨表面的反射与注入

利用分子动力学（MD）模拟研究了低能氦（He）离子在钨（W）基底上的反射与注入。受 ITER 偏滤器设计的启发，本研究考虑了一系列 W 基底温度（300 K、1000 K、1500 K）、一系列 He 原子入射能量（$\le$100 eV）以及相对于基底法线的一系列入射角（$0^{\circ}$-$75^{\circ}$）。MD 模拟量化了反射和注入函数，以及积分矩，如粒子/能量反射系数和平均注入深度。获得了注入深度、反射能量、反射极角和方位角的分布，作为 W 基底温度、入射极角、入射 He 能量以及 W 基底表面类型等模拟参数的函数。提供了 MD 模拟结果、使用 SRIM 模拟包获得的结果以及现有实验和理论结果之间的比较。