基于手征对称性恢复的QCD相图：使用含夸克线性西格玛模型的高低温解析研究

我们使用含夸克线性西格玛模型，从手征对称性恢复的角度研究QCD相图。我们计算了高温和低温以及有限夸克化学势下的领头阶有效势，并考虑到环图贡献以解释等离子体屏蔽效应。我们利用输入参数的物理值来固定模型耦合的值，例如真空π介子和σ质量、零夸克化学势下的临界温度、以及零温下相变线重子化学势的猜想端点值。我们还对相同输入参数但零π介子质量的情况进行了分析。我们发现临界点(CEP)位于低温和高夸克化学势处$(315<\mu^{\text{CEP}}<349\ MeV,18< T^{\text{CEP}}<45\ MeV)$。