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电子束辐照下 GeSbTe 相变材料的渐进非晶化

材料科学 2019-08-28 v2

摘要

硫系相变材料(PCMs),特别是 Ge-Sb-Te 化合物中的快速可逆相变不仅具有基础科学意义,也使基于 PCMs 的随机存取存储器(PRAM)成为非易失性存储器和神经形态计算器件的有力候选。为了 RESET 存储单元,晶态 Ge-Sb-Te 必须首先经历向液态的相变,然后变为非晶态,对应于电阻的突变。本工作中,我们展示了在透射电子显微镜(TEM)电子束辐照下 GeSb2Te4 薄膜中的渐进非晶化过程。原位 TEM 实验表明完全不存在熔化。该渐进非晶化过程与伴随电阻连续变化的累积结晶过程极为相似。我们的工作表明,若能恰当引入位移力,应可利用 PCMs 模拟对称的神经元动力学。

关键词

引用

@article{arxiv.1904.10601,
  title  = {Progressive amorphization of GeSbTe phase-change material under electron beam irradiation},
  author = {Ting-Ting Jiang and Jiang-Jing Wang and Lu Lu and Chuan-Sheng Ma and Dan-Li Zhang and Feng Rao and Chun-Lin Jia and Wei Zhang},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1904.10601},
  year   = {2019}
}