使用HISQ作用的四味QCD研究进展
高能物理 - 格点
2010-03-01 v1
摘要
我们描述了使用HPQCD/UKQCD合作组设计的高度改进交错夸克(HISQ)作用生成规范场组态的最新进展。HISQ作用需要两级涂抹，并在第二次涂抹前对链接进行重新幺正化。我们阐述了如何处理由重新幺正化步骤引起的偶发大作用力。MILC合作组目前正在生成近似格点间距为0.15、0.12、0.09和0.06 fm的系综，其中奇异夸克和粲夸克的质量接近其物理值，轻夸克质量m_l设为0.2 m_s。我们给出了关于π介子味分裂、轻强子质量、静态势、η_c色散关系和拓扑磁化率的最新结果。
引用
@article{arxiv.0911.0869,
title = {Progress on four flavor QCD with the HISQ action},
author = {MILC Collaboration and A. Bazavov and C. Bernard and C. DeTar and W. Freeman and Steven Gottlieb and U. M. Heller and J. E. Hetrick and J. Laiho and L. Levkova and J. Osborn and R. Sugar and D. Toussaint and R. S. Van de Water},
journal= {arXiv preprint arXiv:0911.0869},
year = {2010}
}
备注
8 pages, 7 figures, poster presented at The XXVII International Symposium on Lattice Field Theory - LAT2009, July 26-31 2009, Peking University, Beijing, China