用于堆叠靶实验的薄砷靶的制备与表征

通过在钛衬底上从水溶液中电沉积砷，制备了适用于堆叠靶实验中高保真截面测量的薄而均匀的砷靶。构建了电解池，能够沉积质量约为1–29 mg（0.32–7.2 mg/cm$^2$，0.57–13 $\mu$m）的砷。通过扫描电子显微镜和微分析检查电沉积表面形貌，以研究所制备靶的均匀性。还通过循环伏安法对电镀生长动力学和结构性质进行了简要研究。另外还采用了气相沉积和从深共晶溶剂电沉积的替代靶制备方法。我们进一步引入了一种通过中子活化对薄靶进行无损表征的方法，该方法与中子通量形状、环境因素和源几何无关，同时可校正任何潜在的散射或吸收效应。