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预测量产等离激元器件的散射型扫描近场光学显微成像

光学 2018-05-23 v2 应用物理

摘要

散射型扫描近场光学显微镜能够以远低于衍射极限的纳米级分辨率对等离激元器件进行光学成像与表征。该技术使开发者能够探测并理解已制备的热辅助磁记录头中的波导耦合等离激元天线。为了验证和预测结果,并从实验测量中提取与模拟在物理上可比较的信息,我们建立了一个模型,利用散射型扫描近场光学显微镜物理所特有的物理参数,将模拟电场转换为预期的近场测量值。本文所采用的方法证明,散射型扫描近场光学显微镜可用于确定光学场约束的关键亚衍射极限尺寸,这是纳米光学、半导体光子器件以及生物传感未来发展的关键计量需求,其中光的近场特性是器件工作的基础。

关键词

引用

@article{arxiv.1802.05259,
  title  = {Predicting Scattering Scanning Near-field Optical Microscopy of Mass-produced Plasmonic Devices},
  author = {Lauren M. Otto and Stanley P. Burgos and Matteo Staffaroni and Shen Ren and Ozgun Suzer and Barry C. Stipe and Paul D. Ashby and Aeron T. Hammack},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1802.05259},
  year   = {2018}
}

备注

article: 18 pages, 5 figures; SI: 15 pages, 12 figures