导电二维平面结构建模中的点接触
光学
2015-04-29 v1
摘要
使用优化算法来改善天线和电磁结构的性能，通常会导致出现不规则的平面形状。在使用矩形导电单元时，所提出的结构有时会在两个相邻区域之间仅有一个单点连接。这种单点连接（点交叉）可能会影响结构的电磁性能。在本文中，我们利用 MoM、FDTD 和 FEM 求解器说明了点交叉对偶极子和环形天线的影响。不同结处的电流分布、方向图和阻抗特性各不相同。这些求解器在点交叉结的建模上不一致，这警示了使用此类结的不确定性。然而，求解器一致表明，结处的微小变化会显著改变天线性能。我们建议应考虑对冲突单元进行桥接和倒角处理，以寻找优化结构。使用 FDTD 建模可将模拟时间减少 40%，但使用 MoM 和 FEM 方法并未获得显著减少。
引用
@article{arxiv.1504.05944,
title = {Point Contacts in Modeling Conducting 2D Planar Structures},
author = {David V. Thiel and Morteza Shahpari and Jan Hettenhausen and Andrew Lewis},
journal= {arXiv preprint arXiv:1504.05944},
year = {2015}
}
备注
4 pages, 10 figures, 1 table, accepted for publication in IEEE Antennas Wireless Propag. Lett