基于介电壁电子发射物理处理的等离子体鞘层研究
等离子体物理
2024-03-14 v3 计算物理
摘要
当等离子体鞘层在介电壁旁形成时，材料性质决定了电子在表面的吸收与反射，进而影响鞘层的形成与结构。这种相互作用的低能区在发射鞘层模拟中常未被严格考虑，但可从量子力学第一性原理建模，并对等离子体推进器和聚变装置有重要应用。本工作中，低能电子从壁面的反射作为边界条件在连续介质动力学框架下实现，并针对高发射与低发射情形下的介电材料参数模拟了鞘层。本文给出的结果表明，材料参数可对所得鞘层剖面与粒子分布函数产生显著影响。高反射率表面会出现空间电荷限制鞘层。
引用
@article{arxiv.2210.14117,
title = {Plasma sheath studies using a physical treatment of electron emission from a dielectric wall},
author = {Kolter Bradshaw and Petr Cagas and Ammar Hakim and Bhuvana Srinivasan},
journal= {arXiv preprint arXiv:2210.14117},
year = {2024}
}
备注
Error in formulation of Bronold-Fehske model. The plots shown are actually in terms of E' + chi, shifted incorrectly by a factor of the electron affinity. The apparent perfect reflection region is therefore nonphysical