(Bi$_{1-x}$Sb$_{x}$)$_{2}$Te$_{3}$三维拓扑绝缘体中的光子拖曳效应
介观与纳米尺度物理
2016-04-06 v1
摘要
我们报道了在外延生长的型和型(BiSb)Te三维拓扑绝缘体中观测到太赫兹辐射诱导的光子拖曳效应,其中锑浓度在0到1之间变化。我们证明,偏振太赫兹辐射的激发会产生光电流。在正入射时,电流由表面态中的光生伏打效应引起,而在斜入射时,它被三角光子拖曳效应所超过。所建立的微观模型和理论表明,光子拖曳光电流是由于时变和空变辐射电场导致的动力学动量对齐,并意味着辐射诱导的电子动量空间中的非对称散射。
引用
@article{arxiv.1512.07078,
title = {Photon Drag Effect in (Bi$_{1-x}$Sb$_{x}$)$_{2}$Te$_{3}$ Three Dimensional Topological Insulators},
author = {H. Plank and L. E. Golub and S. Bauer and V. V. Bel'kov and T. Herrmann and P. Olbrich and M. Eschbach and L. Plucinski and J. Kampmeier and M. Lanius and G. Mussler and D. Grützmacher and S. D. Ganichev},
journal= {arXiv preprint arXiv:1512.07078},
year = {2016}
}
备注
15 pages, 12 figures