柱状涂层上的渗流阈值金薄膜：用于SERS应用的表征
光学
2016-03-29 v1
摘要
通过控制Au沉积过程中的渗流，获得了~15 nm厚金薄膜的最大开口。在300 nm厚的纳米多孔柱状SiO2、TiO2和MgF2薄膜上蒸发金，这些薄膜是通过控制成膜过程中的角度、旋转速度和环境压力沉积的。使用在金上形成稳定自组装单分子层的苯硫酚报告分子测试金薄膜的SERS性能。通过Stokes偏振测量测得，这些SERS基底在可见光谱范围内的相位延迟可达5%。在空气中紧聚焦时，金渗流薄膜上的SERS强度可达10^3 counts/(mW.s)，而通过基底的背侧激发显示出经由Fresnel近场机制的额外SERS增强。
引用
@article{arxiv.1603.08197,
title = {Percolation threshold gold films on columnar coatings: characterisation for SERS applications},
author = {Armandas Balcytis and Tomas Tolenis and Xuewen Wang and Gediminas Seniutinas and Ramutis Drazdys and Paul R. Stoddart and Saulius Juodkazis},
journal= {arXiv preprint arXiv:1603.08197},
year = {2016}
}