具有磁流的轴子电介质的反射光学特征

在这项工作中,我们研究了普通电介质介质与支持磁流(等效于由轴子电动力学支配的电介质)的介质之间界面上的反射特性。考虑通常的麦克斯韦方程组和本构关系,我们推导了入射波为$s$和$p$偏振时的一般菲涅耳反射系数,假设电介质基底上存在各向同性磁流。我们确定了所有全内反射和临界角(布鲁斯特角)条件,这些条件由系统所有相关电磁量及频率之间的严格关系给出。对于$s$和$p$偏振入射波,在特定频率窗口和特定入射角区间内,在本构参数满足一定条件时(对于每个传播模式),全内反射可以发生。确定了定义零反射临界角的所有可能条件。这种场景允许通过反射改变偏振。考虑$p$偏振入射波,确定了允许两个传播模式零反射的频率和布鲁斯特角。还评估了古斯-汉欣位移和复克尔旋转。克尔椭圆率角呈现频率依赖行为,在魏尔半金属中也有报道,在特定频率值处达到最大值$\eta_{Kerr}=\pm \pi/4$,这可能作为这种轴子手性电介质的特征。