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关于高能光电子与富勒烯壳层的相互作用

原子物理 2015-06-15 v1 原子与分子团簇

作者: E. G. Drukarev , M. Ya. Amusia

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摘要

研究表明，在内嵌富勒烯系统中，被囚禁原子的光电离过程伴随富勒烯壳层激发的概率，在很宽的光电子能量区间内接近于 1。该结果是通过对光电子与富勒烯壳层相互作用的微扰级数求和得到的。这一结果意味着，从笼内原子射出的光电子与富勒烯壳层之间的相互作用不能用静态势来描述，因为非弹性过程变得至关重要。

关键词

光电离内嵌富勒烯光电子富勒烯壳层非弹性过程微扰级数静态势

引用

@article{arxiv.1302.4835,
  title  = {On the interactions of the high energy photoelectrons with the fullerene shell},
  author = {E. G. Drukarev and M. Ya. Amusia},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1302.4835},
  year   = {2015}
}