用于氦吸附的新型衬底：石墨烷与氟化石墨烯
介观与纳米尺度物理
2015-06-04 v1 其他凝聚态物理
摘要
富勒烯的发现激发了对吸附薄膜所表现行为的广泛探索。我们的研究着眼于平面衬底氟化石墨烯（GF）和石墨烷（GH），并与石墨烯进行比较。我们展示了关于 4He 和 3He 薄膜在此类不同表面上的势能、能带和低密度行为的初步结果。例如，虽然石墨烯呈现的吸附势在性质上与石墨上的相似，但 GF 和 GH 产生的势具有不同的对称性，吸附位点数量是石墨烯/石墨上的两倍，且对吸附原子具有更大的起伏。在 GF 的情况下，最低能带宽度与石墨上的相似，但 He 原子具有显著更大的有效质量，且吸附能大约是石墨上的三倍。我们利用精确路径积分基态方法探索了对 4He 单层相图的启示。发现类似于石墨上 sqrt{3} x sqrt{3} R30^o 态的相称有序态在 GF 和 GH 上都是不稳定的。在 GF 和 GH 上的亚单层 4He 的基态都是超流体，其玻色-爱因斯坦凝聚体分数约为 10%。
引用
@article{arxiv.1204.3061,
title = {Novel substrates for Helium adsorption: Graphane and Graphene-Fluoride},
author = {L. Reatto and M. Nava and D. E. Galli and C. Billman and J. O. Sofo and M. W. Cole},
journal= {arXiv preprint arXiv:1204.3061},
year = {2015}
}
备注
6 pages, 3 figures, LT26 proceedings, accepted for publication in Journal of Physics: Conference Series