化学异质基底上利用嵌段共聚物薄膜的纳米光刻模板
材料科学
2011-08-05 v1
摘要
对称嵌段共聚物薄膜相分离形成的层状结构的取向，强烈受到聚合物嵌段相对于基底的润湿性质的影响。在裸硅片上，聚苯乙烯-聚甲基丙烯酸甲酯嵌段共聚物薄膜的层状结构倾向于平行于硅片表面有序排列，其中聚甲基丙烯酸甲酯嵌段优先润湿硅。我们开发了一种通过使用化学修饰基底来诱导层状结构垂直于基底排列的方法。这是通过在沉积于硅片上的金薄膜上化学吸附硫醇端接烷烃链的自组装单分子层来实现的。我们还表明，通过使用简单的化学图案并在亚微米尺度上空间控制层状结构的垂直取向并将其刻蚀，可以制备纳米光刻模板。这种方法对于利用嵌段共聚物薄膜制备轮廓清晰的模板可能具有巨大的技术意义。
引用
@article{arxiv.1004.0813,
title = {Nanolithographic templates using diblock copolymer films on chemically heterogeneous substrates},
author = {Vassilios Kapaklis and Spyridon Grammatikopoulos and Roman Sordan and Alessio Miranda and Floriano Traversi and Hans von Känel and Dimitrios Trachylis and Panagiotis Poulopoulos and Constantin Politis},
journal= {arXiv preprint arXiv:1004.0813},
year = {2011}
}