莫尔条纹作为范德华异质结构中应变与位错的放大镜
介观与纳米尺度物理
2014-10-27 v1
摘要
我们考虑了具有六角晶格的石墨烯异质结构中的形变（包括应变、皱褶和位错）对一对非共格错位的同构晶体所特有的莫尔条纹几何性质的影响。通过采用现象学理论来描述石墨烯与六角晶体范德华异质结构中的通用莫尔微扰，我们研究了此类异质结构的电子性质。
引用
@article{arxiv.1408.1624,
title = {Moire pattern as a magnifying glass for strain and dislocations in van der Waals heterostructures},
author = {Diana A. Cosma and John R. Wallbank and Vadim Cheianov and Vladimir I. Fal'ko},
journal= {arXiv preprint arXiv:1408.1624},
year = {2014}
}
备注
9 pages, 4 figures. Invited contribution to Faraday Discussion 173: New Advances in Carbon Nanomaterials