局域高强度直流电场诱导的金属晶须生长
材料科学
2023-11-01 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
在本工作中，使用非常高的局域施加电场来诱导 Sn 薄膜上的晶须成核。该电场通过使用导电 AFM 探针并在样品与导电悬臂间施加偏压产生。因此针尖-样品间距可控，且可避免任何介电击穿。在 AFM 针尖长时间定位的位置处，观察到了微小晶须，其生长方向与电场的垂直取向一致。
引用
@article{arxiv.2310.19828,
title = {Metal whisker growth induced by localized, high-intensity DC electric fields},
author = {Vamsi Borra and Osama Oudat and Daniel G. Georgiev and Victor G. Karpov and Diana Shvydka},
journal= {arXiv preprint arXiv:2310.19828},
year = {2023}
}
备注
4 figures