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单像素太赫兹成像的掩模响应

光学 2017-10-24 v1

摘要

太赫兹 (THz) 辐射指频率范围从 0.1 THz (3 mm) 到 10 THz (30 μ\mum) 的电磁辐射,其具有独特的优势,即易于穿透许多障碍物,同时由于是非电离辐射而对有机组织无害。该领域的一个缺点是缺乏高灵敏度探测器阵列或像素数 >1k 的相应太赫兹相机。为了克服太赫兹领域的成像限制,压缩成像结合光控太赫兹空间光调制器是一种很有前景的方法,尤其是在采用单像素成像模式时。这种方法的成像保真度、性能和速度关键取决于成像过程中使用的成像图案(也称为掩模)及其特性。因此,本文研究了在压缩成像模式下,不同掩模类型及其特性如何具体影响重建后的图像质量。该评估得出了针对使用光控太赫兹空间光调制器的太赫兹单像素成像装置或太赫兹单像素相机的具体使用指南。作为展望,本文提出了一种基于文中结果的方法,并将所讨论的优势扩展到改进的压缩成像设置中,适用于远距离安全成像应用,即单像素探测器人体扫描仪。

关键词

引用

@article{arxiv.1710.08317,
  title  = {Mask Responses for Single-Pixel Terahertz Imaging},
  author = {Sven Augustin and Sven Frohmann and Peter Jung and Heinz-Wilhelm Huebers},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1710.08317},
  year   = {2017}
}

备注

10 pages, 5 figures