单层与双层 $\alpha$-$\mathcal{T}_3$ 晶格的多体效应与光学性质

我们进行了广泛的解析与数值研究，以考察在离共振光学修饰场下多体效应对各类 $\alpha$-$\mathcal{T}_3$ 材料所起的作用。此外，我们探讨了其对跳跃参数 $\alpha$ 以及电子-光耦合强度 $\lambda_0$ 的依赖性。所得由于 Dirac 电子与入射光相互作而产生的修饰态，展现出与无入射光时截然不同的电子与光学性质。具体而言，详细讨论了这些电子修饰态的多种集体输运与光学性质，并对单层与双层 $\alpha$-$\mathcal{T}_3$ 晶格进行了比较。所有这些新奇性质均源于中间平带及其与上导带之间的带间跃迁。此外，我们计算了相互作用双层 $\alpha$-$\mathcal{T}_3$ 晶格的耦合等离激元色散，揭示出一个下 acoustic 类等离激元支，其群速度可由层间距和每层的费米能共同调控。最后，在随机相位近似内给出了一个多体理论，用于计算掺杂多层 $\alpha$-$\mathcal{T}_3$ 晶格在线偏振光场中的光吸收率。我们预期此处报道的发现可影响下一代纳米光学与纳米等离激元器件的设计。