耦合自旋 - 费米子系统中的磁性与金属 - 绝缘体转变

我们利用量子蒙特卡洛方法确定耦合方格自旋平面和费米子平面的磁性与输运性质，以此作为金属 - 绝缘体界面的模型。具体而言，具有层内交换常数 $J$ 的 Ising 自旋层通过耦合 $J_H$ 与几个相邻金属片的电子自旋相互作用。当化学势穿过能带中心（即半满填充）时，反铁磁 ($J>0$) Ising 自旋的 N\'eel 温度因与金属的耦合而升高，而在铁磁情况 ($J<0$) 下，金属自由度会降低有序化温度。在前一种情况下，费米子谱中打开能隙，驱动绝缘行为，且电子自旋也发生有序化。这种诱导的反铁磁性随距界面距离的增加而减弱渗透，并且对 $J_H$ 表现出非单调依赖关系。对于掺杂晶格，会发生有趣的电荷 disproportionation，电子移动到界面层以维持那里的半满填充。