用于低成本硅太阳能电池的无光刻亚 100nm 纳米锥阵列减反射层
光学
2014-02-10 v1 材料科学
摘要
通过一步高通量等离子体增强织构化方法，创建并集成了高密度、均匀的亚 100nm 表面氧化硅纳米锥森林结构到光伏器件表面现有的织构化微结构上。通过这种纳米制造方法，我们将化学织构化 B 级硅太阳能电池上的宽带光学反射抑制了高达 70.25%。太阳能电池的性能得到改善，短路电流增加了 7.1%，填充因子增加了 7.0%，转换效率提高了 14.66%。我们的方法展示了利用低成本、高通量纳米制造技术提升光伏器件性能的潜力。
引用
@article{arxiv.1402.1737,
title = {Lithography-free sub-100nm nanocone array antireflection layer for low-cost silicon solar cell},
author = {Zhida Xu and Logan Liu},
journal= {arXiv preprint arXiv:1402.1737},
year = {2014}
}