电光机械光子晶体腔的线性和非线性电容耦合
光学
2014-07-14 v1
摘要
我们制造并表征了一种微米级硅基电光机械系统，其机械运动通过电容与电路耦合，并通过辐射压力与光子晶体腔进行光学耦合。为了实现大的机电相互作用强度，我们实施了一种反向阴影掩模制造方案，该方案在保持最小化光学损耗所需的硅表面质量的同时，获得了小至 30 nm 的电容间隙。利用光子晶体腔的高灵敏度光学读出，我们表征了与结构基频 63 MHz 面内弯曲运动的线性和非线性电容耦合，表明此类器件中的大机电耦合可能适用于实现高效的微波到光信号转换。
引用
@article{arxiv.1407.2982,
title = {Linear and nonlinear capacitive coupling of electro-opto-mechanical photonic crystal cavities},
author = {Alessandro Pitanti and Johannes M. Fink and Amir H. Safavi-Naeini and Chan U. Lei and Jeff T. Hill and Alessandro Tredicucci and Oskar Painter},
journal= {arXiv preprint arXiv:1407.2982},
year = {2014}
}
备注
8 papers, 4 figures