非均匀介质中通过局域折射率剪裁实现光约束
光学
2021-11-29 v2
摘要
光约束的调控是光学中一个历史悠久且对光-物质相互作用控制具有重要影响的课题。然而,在非均匀与无序介质中,多重散射阻碍了常规方法用于设计具有期望性质的光场。这是因为对此类介质的任何局域改变通常以非局域且复杂的方式影响这些场。本文提出一种理论方法,用于剪裁非均匀一维(1D)厄米介电折射率分布,使得入射光场的强度分布可纯局域地控制,即对所关注区域之外的场分布几乎无影响。从而可在介质内任意位置强烈增强或减弱光强,而实际上不改变介质的外部反射率或透射率。这些对介质的局域修改因而对单向远场测量不可探测。我们将该方法应用于局域控制具有非均匀连续折射率分布的 1D 材料内的光约束,并将其推广至多层膜以及耦合微谐振腔链。
引用
@article{arxiv.2103.09182,
title = {Light confinement by local index tailoring in inhomogeneous dielectrics},
author = {I. Krešić and K. G. Makris and S. Rotter},
journal= {arXiv preprint arXiv:2103.09182},
year = {2021}
}
备注
Version 2, 12 pages, 9 figures