图形处理单元上的高斯光斑最小二乘拟合

以纳米级空间分辨率对样品进行研究依赖于对样品位置的精确且稳定的定位。由于光学显微镜中典型样品台的固有机械不稳定性，通常需要在采集过程中控制和/或监测样品位置。对稀疏分布的基准标记进行高速跟踪可在毫秒时间尺度上稳定样品位置。为此，我们提出了一种可扩展的拟合算法，与 Gpufit 相比，其在二维高斯拟合方面的性能有显著提升。