顶色辅助技术色中的同位旋破缺与精细调节

最近，Hill 提出了一个模型，其中新的、可能低能的顶色相互作用产生顶夸克凝聚（类似于 Nambu-Jona-Lasinio 机制），并容纳重顶夸克，而技术色则负责产生 $W$ 和 $Z$ 玻色子的质量。在此我们论证，为了劈分顶夸克和底夸克质量所必需的同位旋破缺规范相互作用，很可能也与技术费米子耦合。在这种情况下，如果新相互作用的标度约为 1 TeV，它们将导致 $W$ 和 $Z$ 玻色子质量发生显著移动（即贡献于 $\Delta \rho_* = \alpha T$）。为了满足对 $\Delta \rho_*$ 的实验约束，我们发现有效顶夸克耦合或顶色耦合必须被精细调节到 1% 的精度。与顶夸克和底夸克质量劈分无关，我们证明同位旋劈分要求顶色规范玻色子的质量必须大于约 1.4 TeV。我们的分析也适用于通过同位旋破缺的扩展技术色（ETC）相互作用产生顶-底质量劈分的强 ETC 模型。