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电子拓扑与晶体对称性的相互关联:拓扑能带绝缘体中的位错线模式

介观与纳米尺度物理 2014-12-03 v2 强关联电子

摘要

我们阐明了支配三维拓扑能带绝缘体中位错线响应的一般规则。根据该 K-b-t{\bf K}\text{-}{\bf b}\text{-}{\bf t} 规则,以方向为 t{\bf t} 且 Burgers 矢量为 b{\bf b} 的位错线表示的晶格拓扑,与以能带反转动量 Kinv{\bf K}_{\rm inv} 为特征的电子能带拓扑相结合,当垂直于位错线的平面具有能带反转且随之产生非平庸通量 Φ=Kinvb(mod2π)\Phi={\bf K}_{\rm inv}\cdot {\bf b}\,\, ({\rm mod\,\,2\pi}) 时,会产生无能隙传播模式。尽管 Y. Ran {\it et al.}, Nature Phys. {\bf 5}, 298 (2009) 已经发现位错线可以承载传播模式,但 K-b-t{\bf K}\text{-}{\bf b}\text{-}{\bf t} 规则提供了这些模式与拓扑态晶体对称性相关联的确切出现机制。最后,我们讨论了可能具有实验结果意义的例子,在这些例子中,这些模式对传播方向不敏感,例如最近提出的电子掺杂 BaBiO3_3 中的拓扑绝缘态。

关键词

引用

@article{arxiv.1401.4044,
  title  = {Interplay between electronic topology and crystal symmetry: Dislocation-line modes in topological band-insulators},
  author = {Robert-Jan Slager and Andrej Mesaros and Vladimir Juricic and Jan Zaanen},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1401.4044},
  year   = {2014}
}

备注

Main text + supplementary material, published version