Ta\Co20Fe60B20\MgO 纳米线中的界面 Dzyaloshinskii-Moriya 相互作用
介观与纳米尺度物理
2015-06-22 v1
摘要
我们报道了 Ta\Co20Fe60B20\MgO 纳米线中的电流诱导畴壁运动 (CIDWM)。观察到在无外加磁场时，畴壁逆着电子流方向运动，而沿纳米线方向的磁场则强烈影响畴壁的运动方向和速度。对于上 - 下和下 - 上畴壁观察到了对称效应。这表明存在右手性畴壁，其源于 Dzyaloshinskii-Moriya 相互作用 (DMI)，DMI 系数为 D=+0.06 mJ/m2。正的 DMI 系数被解释为退火过程中硼扩散到钽缓冲层的结果。在 Pt\Co68Fe22B10\MgO 纳米线中观察到沿电子流方向的 CIDWM，证实了这一解释。将实验结果与包含钉扎效应的 1D 模型模拟进行了比较。这种高级建模使我们能够重现实验结果，并可靠地提取出纳米线中 Ta 的自旋霍尔角 {\theta}SH=-0.11，表明进行超越当前完美纳米线模型的分析至关重要。
引用
@article{arxiv.1409.3753,
title = {Interfacial Dzyaloshinskii-Moriya interaction in Ta\Co20Fe60B20\MgO nanowires},
author = {R. Lo Conte and E. Martinez and A. Hrabec and A. Lamperti and T. Schulz and L. Nasi and L. Lazzarini and F. Maccherozzi and S. S. Dhesi and B. Ocker and C. H. Marrows and T. A. Moore and M. Klaeui},
journal= {arXiv preprint arXiv:1409.3753},
year = {2015}
}
备注
22 pages, 5 figures