在石墨烯与铱（111）间插层钴：一种源自边缘的空间依赖性动力学
材料科学
2017-10-31 v1
摘要
利用低能电子显微镜，我们实时成像了钴单原子层在石墨烯与铱（111）表面之间的插层过程。我们的测量揭示，石墨烯片的边缘对插层构成能量势垒。基于简单的生长动力学描述，我们估算了该能量势垒并发现了微小但显著的局域变化。这些局域变化暗示了石墨烯相对于衬底取向以及石墨烯边缘终止方式对势垒高度能量值的可能影响。此外，我们的测量表明插层钴比裸铱上的钴在能量上更有利，表明石墨烯具有表面活性剂作用。
引用
@article{arxiv.1710.11066,
title = {Intercalating cobalt between graphene and iridium (111): a spatially-dependent kinetics from the edges},
author = {Sergio Vlaic and Nicolas Rougemaille and Amina Kimouche and Benito Santos Burgos and Andrea Locatelli and Johann Coraux},
journal= {arXiv preprint arXiv:1710.11066},
year = {2017}
}