中文

焦耳热对电流诱导畴壁脱钉的影响

介观与纳米尺度物理 2016-07-15 v2 材料科学

摘要

在静态磁场施加和短电流脉冲注入下,我们从理论上研究了位于 SiO2/Si{\rm SiO_2/Si} 基底上的坡莫合金纳米条中从缺口处发生的畴壁脱钉。通过将铁磁条中的磁化动力学与整个系统的热传输耦合,自洽地探索了焦耳热对电流诱导畴壁脱钉的影响。我们的结果表明焦耳热在这些过程中起着显著作用,导致对于典型注入的电流脉冲,临界脱钉场减小和/或铁磁序的暂时破坏。与实验观测一致,当考虑焦耳热时,对于两种电流极性均可推导出相似的钉扎-脱钉相图。这些与仅由自旋转移矩贡献不相容的观测,提供了对这些过程背后物理的更深入理解,并确立了自旋转移矩的实际作用范围。它们也与基于软磁条上电流诱导畴壁运动的技术应用相关。

关键词

引用

@article{arxiv.1604.00522,
  title  = {Influence of Joule heating on current-induced domain wall depinning},
  author = {Simone Moretti and Victor Raposo and Eduardo Martinez},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1604.00522},
  year   = {2016}
}