CLEO-c 利用 CP 标记的 $D\toK_{S,L}\pi\pi$ 衰变对 $\gamma\phi_3$ 的影响
高能物理 - 实验
2010-01-05 v1
摘要
CKM 角 的精确测定取决于对粲混合振幅的约束、双重 Cabibbo 抑制振幅及相对相位的测量，以及由味或 CP 本征态标记的粲 Dalitz 图的研究。在本注记中，我们描述了 CLEO-c 用于约束 模型不确定性的技术，及其对在 Charm 2007 研讨会上提出的 B 工厂 测量的影响。
引用
@article{arxiv.0711.2285,
title = {Impact on $\gamma\phi_3$ from CLEO-c Using CP-tagged $D\toK_{S,L}\pi\pi$ Decays},
author = {Eric White and Qing He},
journal= {arXiv preprint arXiv:0711.2285},
year = {2010}
}
备注
5 pages, 5 figures, submitted to Charm 2007 Workshop Conference proceedings