利用共振多脉冲电离注入获得高质量 GeV 级电子束团
加速器物理
2018-12-26 v1 等离子体物理
摘要
近期提出了一种用于激光尾场加速、采用单台 100-TW 级激光系统的新注入方案。在共振多脉冲电离注入（ReMPI）中，一束共振脉冲列驱动大幅等离子体波，俘获由高 Z 掺杂剂（本文为氩）进一步电离从等离子体提取的电子。尽管驱动脉冲列的脉冲强度低于掺杂剂电离阈值，但适当延迟并倍频（或更高）的电离脉冲具有足够大的电场来提取电子，尽管其归一化振幅远小于 1。本文将报告旨在产生 GeV 级束团的数值模拟结果，其归一化发射度和 rms 能量分别低于 和 。还将报告对 束团的 FEL 性能的解析考量。
引用
@article{arxiv.1802.09838,
title = {High-quality GeV-scale electron bunches with the Resonant Multi-Pulse Ionization Injection},
author = {P. Tomassini and S. De Nicola and L. Labate and P. Londrillo and R. Fedele and D. Terzani and F. Nguyen and G. Vantaggiato and L. A. Gizzi},
journal= {arXiv preprint arXiv:1802.09838},
year = {2018}
}
备注
EAAC 2017 Conference, Elba, Italy