颗粒效应对不连续金属膜中电子输运的影响

我们重新分析了 Dolan 与 Osheroff 的开创性工作 [Phys. Rev. Lett. $\textbf{43}$, 721 (1979)]，该工作报道了高电阻率薄膜金属条带中的反常低温输运。我们认为，其所观测到的 3 nm 厚 Au-Pd 条带电阻随温度降低的对数增长，应归因于不连续金属膜中电子输运的颗粒效应。我们对导电 Pb$_x$(SiO$_2$)$_{1-x}$ 纳米颗粒膜的测量进一步支持了这一重新分析，其中 $x$ 为 Pb 的体积分数。