光子晶体腔设计的一般方法
光学
2009-11-11 v2 计算物理
摘要
我们描述了一种设计高品质因子（Q）小模体积光子晶体腔的一般方法。我们首先推导了用腔模的 k 空间分布表示面外损耗的简单表达式。利用此式，我们选取可产生高 Q 的场。然后我们推导了沿高对称方向的腔场与介电常数之间的解析关系，并用其来限制我们期望的模式。通过采用这种逆问题方法，我们能够设计 Q > 4*10^6 且模体积 V ~ (\lambda/n)^3 的光子晶体腔。我们的方法完全消除了光子晶体腔设计中的参数空间搜索，并允许对大量光子晶体腔进行快速优化。最后，我们研究了面外腔 Q 与模体积比的极限。
引用
@article{arxiv.physics/0507156,
title = {General Recipe for Designing Photonic Crystal Cavities},
author = {Dirk Englund and Ilya Fushman and Jelena Vuckovic},
journal= {arXiv preprint arXiv:physics/0507156},
year = {2009}
}
备注
15 pages. A version with higher quality figures can be found at http://www.stanford.edu/group/nqp/jv_files/publications.html