氟化表面：迈向通用的无基质激光解吸电离基底
材料科学
2019-03-27 v1
摘要
基质辅助激光解吸电离（MALDI）是一种软电离方法，在高通量质谱分析中有着广泛应用。该技术的主要局限之一是它需要使用基质：这些分子能够促进分析物的解吸和电离（D/I）过程，但也会在低质量光谱区产生强烈的干扰信号，从而阻碍了对低分子量化合物的适当检测。避免使用它们的可能性将简化样品制备和质谱（MS）解读。近年来，纳米结构表面被提出作为实现这一目标的可行方法，但结果仅限于特定类别的化合物，且该方法缺乏通用性。在这里，我们证明表面氟化是激活靶标并实现无基质操作的唯一必要步骤，且其检测限与使用纳米结构芯片获得的检测限相同。这项工作的结果表明，D/I 是一种纯粹的界面效应，只要基底具有导电性并能有效吸收紫外激光束，其底层基底的化学性质对它的贡献可以忽略不计。
引用
@article{arxiv.1609.01498,
title = {Fluorinated surfaces: towards a universal matrix-free substrates for Laser Desorption Ionization},
author = {Chiara Piotto and Graziano Guella and Paolo Bettotti},
journal= {arXiv preprint arXiv:1609.01498},
year = {2019}
}