通过局部热处理压平范德瓦耳斯异质结构界面
材料科学
2020-10-16 v2
摘要
基于堆叠二维材料制作定制异质结构提供了一种有效控制调谐电学和光学性质的方法。为此，优化构建这些异质结构的制备技术势在必行。二维材料逐层组装中的一个常见挑战是在原子级薄界面处形成气泡。我们提出一种技术，利用配备光栅扫描能力的激光所产生的热，去除在自定义区域内异质结构界面处形成的气泡，以解决此问题。我们证明使用该方法可控制地降低石墨烯-ReS2 界面处形成的气泡密度。我们通过考虑两种原子级薄二维材料之间界面热导率和粘附能的相互作用，讨论了对压平机制的理解。
引用
@article{arxiv.2010.04783,
title = {Flattening van der Waals heterostructure interfaces by local thermal treatment},
author = {Adina Luican-Mayer and Justin Boddison-Chouinard and Samantha Scarfe and K. Watanabe and T Taniguchi},
journal= {arXiv preprint arXiv:2010.04783},
year = {2020}
}