用于制备点接触的电迁移反馈控制
介观与纳米尺度物理
2015-06-11 v1
摘要
光刻制备的点接触是介观导体的重要实例，可用作分子电子学的电极以及机械运动的超灵敏换能器。我们开发了一种通过电迁移制备金属点接触的可重复技术。我们在四线配置中采用快速模拟反馈，并结合较慢的计算机控制反馈，以避免灾难性不稳定性。这种混合系统允许电迁移过程在导线中以近似恒定的功率耗散下进行。我们能够精确控制点接触的最终电阻至 5 k\Omega 以下，并在目标电阻接近仅剩单个导电通道的 12 k\Omega 时，将其控制在三倍因子范围内。
引用
@article{arxiv.1210.1551,
title = {Feedback-controlled electromigration for the fabrication of point contacts},
author = {J. M. Campbell and R. G. Knobel},
journal= {arXiv preprint arXiv:1210.1551},
year = {2015}
}