用于3D纳米磁学应用的扩展视场磁光 Kerr 显微技术
应用物理
2026-01-14 v1
摘要
高分辨率成像磁性纳米结构对于理解基本自旋现象和设计先进器件至关重要。近期发展表明，3D纳米磁学的不断增长，凸显了捕捉跨越弯曲或倾斜表面的磁性结构并具备高灵敏度的成像技术的需求。尽管磁光 Kerr 效应 (MOKE) 显微技术广泛用于成像磁化态，但由于其浅景深 (DOF) 的内在限制，在测量非平坦系统时面临挑战。本文提出一种扩展视场 MOKE 成像方法，结合通过焦扫描和图像拼接重建，以获得跨非平坦样品几何形状的锐利、清晰的磁性域图像。该方法在本研究特意倾斜的垂直磁化薄膜和平行磁化薄膜上进行验证，使我们能够对域态形貌进行定量分析并检测灵敏度。该实验室可及的技术提供了一种快速且通用的3D磁性成像途径，补充大规模 X 射线基础方法，为研究带有倾斜或曲面3D几何形状的非平坦磁性样品提供了实用工具。
关键词
引用
@article{arxiv.2601.08059,
title = {Extended Depth of Field Magneto-Optical Kerr Microscopy for Applications in 3D Nanomagnetism},
author = {Le Zhao and Alexander Rabensteiner and Miguel Ángel Cascales-Sandoval and Naëmi Leo and Sabri Koraltan and Amalio Fernández-Pacheco},
journal= {arXiv preprint arXiv:2601.08059},
year = {2026}
}