工程化分子磁体中高温纠缠的证据

分子化合物 [Fe$_{2}$($\mu_{2}$-oxo)(C$_{3}$H$_{4}$N$_{2}$)$_{6}$(C$_{2}$O$_{4}$)$_{2}$] 被首次设计并合成，其结构通过单晶 X 射线衍射确定。测量了该化合物从 2 到 300 K 的磁化率。利用为其他自旋单重态基态系统开发的协议对磁化率数据进行分析表明，量子纠缠可保留至高达 732 K 的温度，显著高于迄今报道的最高纠缠温度。基态与第一激发态之间的巨大能隙 (282 K) 表明，该自旋系统可能对退相干机制具有一定的免疫力。我们的测量结果强烈表明，分子磁体是量子信息处理极具前景的候选平台。