电子关联增强 CuBi 合金中的自旋霍尔效应
材料科学
2015-06-18 v2
摘要
近期在 CuBi 合金中的实验获得了 -0.24 的大自旋霍尔角（SHA）（Niimi 等人，Phys. Rev. Lett. 109, 156602 (2012)）。我们发现，靠近 Cu 表面的 Bi 杂质可以显著增强 SHA。这种增强机制具有双重性：一是表面局域杂质态的杂化减弱并结合了库仑关联效应；二是源于表面传导电子的低维态，这导致杂质引起的斜散射进一步增强。此外，我们指出实验与先前理论之间 SHA 符号的差异仅仅是由 SHA 定义不同所致。这重新确立了斜散射作为 CuBi 合金中自旋霍尔效应背后的基本机制。
引用
@article{arxiv.1402.3012,
title = {Enhanced spin Hall effect by electron correlations in CuBi alloys},
author = {Bo Gu and Zhuo Xu and Michiyasu Mori and Timothy Ziman and Sadamichi Maekawa},
journal= {arXiv preprint arXiv:1402.3012},
year = {2015}
}
备注
5 pages, 1 figure