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金属间化合物 EuTSi$_3$ (T=Rh, Ir) 中导带态密度的增强

强关联电子 2015-09-02 v1

摘要

我们报道了单晶 EuRhSi3_3 和多晶 EuIrSi3_3 的物理性质,这些性质是通过磁化、电输运、热容和 151^{151}Eu M"ossbauer 谱学推断得出的。这些已知的化合物结晶为四方 BaNiSn3_3 型结构。EuRhSi3_3 的单晶磁化在 2 K 时表现出强烈的各向异性行为,其自旋翻转场为 13 T;我们提出了一个描述这些磁性质的模型,从而可以确定交换常数。在这两种化合物中,比热显示出在 50 K 附近存在一系列两个紧密相邻的相变,而 151^{151}Eu M"ossbauer 谱表明中间相具有非公度振幅调制结构。我们发现,与该系列的其他成员相比,RKKY N\'eel 温度、自旋翻转场 (13 T)、从电阻率和比热数据推断出的自旋波能隙 (\simeq 20-25 K)、EuRhSi3_3 中的自旋无序电阻率 (35\simeq 35 μ\muOhm.cm) 以及饱和超精细场 (52 T) 的值均异常大。我们表明,所有这些量都取决于费米能级处的电子态密度,这意味着后者在这两种材料中必须得到显著增强。EuIrSi3_3 表现出巨大的磁电阻比,在 2 K 和 14 T 磁场下其值超过 600%。

关键词

引用

@article{arxiv.1502.00285,
  title  = {Enhanced conduction band density of states in intermetallic EuTSi$_3$ (T=Rh, Ir)},
  author = {A. Maurya and P. Bonville and A. Thamizhavel and S. K. Dhar},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1502.00285},
  year   = {2015}
}

备注

6 pages, 8 figures