图案化坡莫合金薄膜中条带畴相的出现
介观与纳米尺度物理
2016-09-14 v1
摘要
铁磁坡莫合金 (Py=FeNi) 中条带畴的出现是一种众所周知的现象，已被广泛观察和表征。这种特殊的磁构型仅出现在厚度高于临界值 () 的薄膜中，该临界值强烈取决于溅射条件（即沉积速率、温度、磁场）。迄今为止， 通常被视为均匀 (H) 与条带畴 (SD) 区之间的边界，分别位于 以下和以上。本工作中，我们研究了不同厚度 Py 薄膜和微结构桥中从 H 到 SD 区的过渡。我们发现存在一个中间区，在 d 以下相当显著的厚度范围内，其在受限结构中表现为快速变化的畴壁构型以及矫顽场处磁电阻谷的展宽。我们称之为新兴条带畴 (ESD) 区。从 ESD 到 SD 区的过渡伴随着在 MFM 中条纹出现的厚度处磁电阻比的急剧增加。
引用
@article{arxiv.1608.01527,
title = {Emergence of the stripe-domain phase in patterned Permalloy films},
author = {S. Voltan and C. Cirillo and H. J. Snijders and K. Lahabi and A. Garcia-Santiago and J. M. Hernandez and C. Attanasio and J. Aarts},
journal= {arXiv preprint arXiv:1608.01527},
year = {2016}
}
备注
9 pages, 9 figures