中文

基于DFT+$U$的掺杂TiO$_2$(锐钛矿)体系的电子结构与有效质量分析

材料科学 2022-08-19 v2

摘要

本工作中,使用DFT+UU计算了若干掺杂TiO2_2锐钛矿体系的电子结构。同时计算了电荷载流子的有效质量,以量化掺杂原子如何扰动宿主锐钛矿材料的能带。UU值通过线性响应方法对所有掺杂剂系统计算得到,而非采用对已知物理量的拟合流程。考虑将dd块与ff块元素组合(Nb、Ta、V、Mo、W、Cr、La、Cu、Co和Ce)作为掺杂剂。根据其外层ddff电子的能量,发现掺杂剂在宿主锐钛矿体系的能带结构中不同位置形成缺陷态。部分掺杂剂如Cr、Mo等形成带隙中间态,可能降低透明度。其他掺杂剂如Nb、Ta和W的费米能级位于导带边附近,表明这些体系呈现nn型导电性。由有效质量分析可知,掺杂剂增大了电荷载流子的有效质量以及能带的非抛物线性。基于电子结构与有效质量分析,识别出Nb、Ta和W相比此处考虑的其他掺杂剂具有更高的透明度和导电性。本文给出的理论结果增进了我们的理解,并展示了掺杂剂改变锐钛矿TiO2_2性质的潜力。

关键词

引用

@article{arxiv.2205.07218,
  title  = {Electronic structure and effective mass analysis of doped TiO$_2$ (anatase) systems using DFT+$U$},
  author = {Abhishek Raghav and Kenta Hongo and Ryo Maezono and Emila Panda},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2205.07218},
  year   = {2022}
}

备注

Accepted version, 19 pages, 22 figures