S-F-TI-S 结对磁纹理动力学的电学响应
介观与纳米尺度物理
2020-03-03 v3 强关联电子
摘要
我们考虑一种由超导或正常引线以及铁磁体-三维拓扑绝缘体复合中间层构成的杂化结构。我们比较了约瑟夫森结与普通结对磁纹理动力学的响应。在两种情况下,由磁化动力学产生的电动势在结引线间产生电压。对于开路,该电压在普通引线与超导引线间相同,并可用于磁化动力学及给定磁纹理结构的电学探测。然而,在施加电流下,约瑟夫森结的电学响应本质上不同,这是由于临界约瑟夫森电流对磁化方向的强烈依赖,并可用于该依赖关系的实验探测。我们提出了一种能够探测缺陷运动并提供磁不均匀性结构详细信息的装置。所讨论的效应可能引起自旋电子学应用的兴趣。
引用
@article{arxiv.1904.11193,
title = {Electrical response of S-F-TI-S junctions on magnetic texture dynamics},
author = {D. S. Rabinovich and I. V. Bobkova and A. M. Bobkov},
journal= {arXiv preprint arXiv:1904.11193},
year = {2020}
}
备注
published vesion