高效的双层源掩码优化
信号处理
2024-05-17 v1
摘要
分辨率增强技术 (RETs) 对于满足先进技术节点的需求至关重要。在 RETs 中，源掩码优化 (SMO) 至关重要，它同时优化源和掩码以扩大工艺窗口。然而，传统的 SMO 方法受限于顺序和交替优化，导致运行时间延长且无性能保证。本文引入了一个利用加速 Abbe 正向成像的统一 SMO 框架，以提高精度和效率。此外，我们提出了创新的 \texttt{BiSMO} 框架，该框架通过双层优化方法重新构建了 SMO，并提出了三种基于梯度的方法来解决双层 SMO 的挑战。我们的实验结果表明，\texttt{BiSMO} 实现了 40% 的误差指标降低和 8 的运行时效率提升，标志着 SMO 的重大飞跃。
引用
@article{arxiv.2405.09548,
title = {Efficient Bilevel Source Mask Optimization},
author = {Guojin Chen and Hongquan He and Peng Xu and Hao Geng and Bei Yu},
journal= {arXiv preprint arXiv:2405.09548},
year = {2024}
}
备注
Accepted by Design Automation Conference (DAC) 2024