由朗道能级填充控制的边缘通道干涉

L. V. Litvin; A. Helzel; H. -P. Tranitz; W. Wegscheider; C. Strunk

doi:10.1103/PhysRevB.78.075303

由朗道能级填充控制的边缘通道干涉

材料科学 2008-08-06 v3 介观与纳米尺度物理

作者: L. V. Litvin , A. Helzel , H. -P. Tranitz , W. Wegscheider , C. Strunk

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摘要

我们研究了整数量子霍尔 regime 下电子 Mach-Zehnder 干涉仪 (MZI) 中 Aharonov-Bohm 干涉的可见度。该可见度由填充因子 $\nu$ 控制，仅在 $\nu \approx 2.0$ 至 1.0 之间观察到，并在 $\nu=1.5$ 附近出现一个意外的最大值。从可见度的温度和电压依赖性中提取的三个能量尺度随填充因子的变化方式非常相似，表明干涉的不同方面敏感地依赖于形成量子霍尔边缘通道的可压缩带和不可压缩带的局部结构。

关键词

Aharonov-Bohm 干涉 Mach-Zehnder 干涉仪整数量子霍尔区边缘通道填充因子可压缩带不可压缩带

引用

@article{arxiv.0802.1164,
  title  = {Edge Channel Interference Controlled by Landau Level Filling},
  author = {L. V. Litvin and A. Helzel and H. -P. Tranitz and W. Wegscheider and C. Strunk},
  journal= {arXiv preprint arXiv:0802.1164},
  year   = {2008}
}

备注

5 pages, 5 figures, final version accepted for publication in Phys. Rev. B

由朗道能级填充控制的边缘通道干涉

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关键词

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