垂直磁化超薄膜中偶极相互作用驱动的畴生长动力学
材料科学
2015-05-18 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
对垂直磁化Fe/2ML Ni/W(110)超薄膜的交流磁化率测量清晰地显示了该系统所支持的条状畴图案中畴生长和畴密度变化的动力学特征。在0.20 K/s < R < 0.70 K/s范围内，以不同恒定升温速率测量到的磁化率峰随着升温速率的增加而向更高温度移动。使用弛豫模型进行的分析定量表明，该动力学是由（接近）零场下的非平衡畴密度（即由偶极相互作用）驱动的，并且温度移动是由于结构缺陷对局域畴壁段的钉扎所决定的响应时间。由偶极相互作用驱动的畴密度弛豫的基本时间尺度比由外加场驱动的单个巴克豪森阶跃的基本时间尺度慢约10^5倍。基本时间尺度的增加反映了偶极能与塞曼能的相对大小，以及需要许多局域畴壁段的关联运动才能影响畴生长。
引用
@article{arxiv.1001.4069,
title = {Dynamics of domain growth driven by dipolar interactions in a perpendicularly magnetized ultrathin film},
author = {N. Abu-Libdeh D. Venus},
journal= {arXiv preprint arXiv:1001.4069},
year = {2015}
}
备注
11 pages, 5 figures