Finemet薄膜中的动态磁滞
材料科学
2015-06-25 v1
摘要
我们对成分为 FeCuNbSiB 的三组Finemet薄膜进行了系列动态磁滞测量，同时使用了纵向磁光Kerr效应（MOKE）和感应磁通测量法。MOKE动态磁滞回线随频率的变化比感应法测量的结果更为显著，而两种测量均表现出与频率平方根相似的依赖关系。我们在简单的畴壁退钉扎模型框架下分析了这些结果，该模型能够解释数据的一般行为。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0507299,
title = {Dynamic hysteresis in Finemet thin films},
author = {L. Santi and R. L. Sommer and A. Magni and G. Durin and F. Colaiori and S. Zapperi},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0507299},
year = {2015}
}
备注
3 pages, 3 figures