局域场中带电缺陷的漂移作为铁电体的老化机制
材料科学
2009-11-13 v1
摘要
点缺陷迁移被考虑作为铁电体老化的一种机制。本文给出了二维畴构型中点缺陷迁移与静电能弛豫耦合问题的数值结果。畴壁处钳压的峰值在 Pa 范围内，这与钙钛矿铁电体中宏观观测到的矫顽应力相对应。将该效应与涉及畴体内缺陷偶极子取向重排的机制进行了比较。在相同材料参数下，漂移机制中的畴钳制比取向图像中的显著更强。
引用
@article{arxiv.0704.2610,
title = {Drift of charged defects in local fields as aging mechanism in ferroelectrics},
author = {Yuri A. Genenko and Doru C. Lupascu},
journal= {arXiv preprint arXiv:0704.2610},
year = {2009}
}
备注
24 pages, 12 figures, accepted to Physical Review B