光锥模拟暗物质晕丰度函数对环境依赖性的研究

目的。我们利用一个简单且定义明确的晕孤立性判据，在延伸至 z < 0.65 的全天 $\Lambda$CDM 光锥晕表中研究不同环境下晕丰度函数(AF)的依赖性。方法。每个暗物质晕的孤立状态由其到最近邻的距离决定，该距离定义了其周围不含高于阈值质量晕的最大球形区域(尽管该区域的真实大小可能更大，因为其未必为球形)。我们使用一个通用的双幂律 Schechter 函数拟合暗物质晕 AF，并研究其导出参数随晕孤立状态的变化。结果。(a) 我们的函数对所有晕孤立状态的晕丰度都拟合得极好，而公认的理论质量函数在光锥体积上积分后虽能提供充分但较我们的唯象模型更差的拟合。(b) 正如预期且与其他基于快照模拟的研究一致，我们发现晕丰度函数随晕孤立性存在显著差异，表明晕形成速率不同。幂律斜率与类 Schechter 拟合函数的特征质量随孤立性降低，这一结果与非孤立低密度区中质量较小晕的形成一致。(c) 我们发现样本中最为孤立的晕的特征质量出现意外的回升。该回升仅起源于并表征更高红移区间 (z > 0.45)，这可能意味着最孤立且质量最大的晕的孤立状态近期发生了显著演化。