非平衡磁挞发射导致的自旋阀点接触中磁化变化

我们描述了铁磁/正常金属/铁磁自旋阀点接触中的自旋传递。自旋由偏振设备电流传递至自由层的磁化，通过电子非平衡磁挞发射的机制实现。我们的模型基于磁挞占据率方程，采用费米金凡定律计算磁挞的发射与吸收，并使用受偏置自旋阀的非平衡电子分布。磁挞发射会降低自由层的磁化。当两层磁化方向呈反平行时，在临界偏置下会发生磁挞雪崩，表现为有效磁挞温度发散。这种临界行为可能导致磁化翻转，从而抑制磁挞发射。然而，磁挞-磁挞散射可导致磁挞浓度在较大但有限的值处饱和。进一步的行为取决于系统参数。特别是，磁挞浓度的渐进演化可随磁化翻转而发生。另一种情形是磁挞浓度呈阶梯式增加后逐渐下降。在后者情况下，预计会因电子-磁挞散射贡献而出现微分电阻尖峰。给出与现有实验数据和理论方法的比较。